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建设地点

广东广州增城区

建设单位

中微半导体设备（广州）有限公司

项目概况

项目拟选址广州市增城区新誉北路和创优路交叉口东北侧地块，主要从事半导体设备的生产、研发，仅包括组装、测试和包装，整机测试工序均在真空、保压状态下进行，再使用气枪喷射氦气进行气密性检测，不涉及通入特气进行反应测试，年产12台Gen8.6代等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备、3台蚀刻(Etch)设备，建设3个Gen4.5代等离子增强化学气相沉积(PECVD)研发机台、3个干法蚀刻(DryEtch)研发机台、1个原子沉积(ALD)研发机台。研发主要采用设计(含委外定制原料/零部件)、原料质检、玻璃基片清洗、等离子增强化学气相沉积(PECVD)工艺功能测试与腔体清洗、膜层性能测试、原子层沉积(TFEALD)工艺功能测试、干法刻蚀(DryEtch)工艺功能测试、设备性能改进升级等工序。项目总投资100000万元，其中环保投资730万元。

环评机构

广州经济技术开发区怡地工程有限公司

主要环境影响及预防或减轻不良环境影响的对策和措施

（一）项目氯气、氟化物、氮氧化物执行《大气污染物排放限值》（DB44/27-2001）第二时段二级标准；磷烷和硅烷参照执行《环境影响评价技术导则制药建设项目》（HJ611-2011）附录C中多介质环境目标值估算DMEG值和《荷兰排放导则》（NER）中排放限值的较严值；非甲烷总烃、TVOC执行《固定污染源挥发性有机物综合排放标准》（DB44/2367-2022）表1挥发性有机物排放限值；氨执行《恶臭污染物排放标准》（GB14554-93）表2中35米高排气筒排放标准值。食堂油烟执行《饮食业油烟排放标准（试行）》（GB18483-2001）表2最高允许排放浓度。厂区内无组织排放监控点NMHIC浓度执行《固定污染源挥发性有机物综合排放标准》（DB44/2367-2022）中表3厂区内VOCs无组织排放限值。厂界无组织排放的硫酸雾、氮氧化物、氟化物、氯气执行《大气污染物排放限值》（DB44/27-2001）表2第二时段无组织排放监控浓度限值；氨、硫化氢、臭气浓度执行《恶臭污染物排放标准》（GB14554-93）新、扩、改建设项目恶臭污染物厂界二级标准。
（二）项目生活污水执行《水污染物排放限值》（DB44/26-2001）第二时段三级标准，生产废水执行《电子工业水污染物排放标准》（GB39731-2020）；经市政污水管道排至增城区开发区下沉式再生水厂处理达标后排放。
（三）项目噪声排放执行《工业企业厂界环境噪声排放标准》（GB12348-2008）3类标准。
（四）各类固体废物实行分类收集、处置。固体废物的贮存、堆放应按《危险废物贮存污染控制标准》（GB18597-2023）、《一般工业固体废物贮存和填埋污染控制标准》(GB 18599-2020)要求进行管理。危险废物应委托有资质的单位处置。

公众参与情况